제품정보

DTL-6

기존 램프 Annealing 장치로는 불가능했던 400℃이하의 온도에서도 제어 가능한 실험 및 개발용 장치입니다.
Walk를 급속히 가열하여 단시간에 처리를 행하는 것을 목적으로 한 할로겐 램프를 열원으로 하는 평면 가열 방식의 열처리 장치입니다.
할로겐 램프를 상하로 배치, 6zone 분할의 파워 비율 조정으로 Walk의 균일한 처리가 가능합니다.
Controller는 Recipe 작성·관리 및 Data Log 기능 등 R&D를 보조하는 각종 기능을 갖추고 있습니다.
Susceptor(옵션)를 사용하여 화합물 반도체 Wafer나 유리기판 등에도 대응 가능합니다.