반도체 제조장비
반도체 제조장비
CLH Series
열풍 흐름 방향으로 측면 방식의 III형과 전면 방식의 V형의 2종류가 있습니다.
내열형의 고성능 필터와 독자 냉각기의 탑재로 최고 530℃까지(V형은 500℃까지)의 고온 처리를 실시할 수 있는 Clean oven입니다.
Features
- · 내열 고성능 Filter와 당사만의 냉각기 탑재로 고온 Bake가 가능
· 온도 안정 시에 로내는 Class100(ISO:Class5)
· 열풍 Flow는 전면 송풍(뒤에서 앞) Type(V형)과 Side Flow(왼쪽에서 오른쪽) Type(Ⅲ형)이 있어 높은 열효율과 양호한 온도 균일성을 실현
· 반도체 Wafer, Glass기판 Baking, Aging 등의 고정밀 처리가 요구되는 용도에 최적
· 불활성가스를 로내에 도입함으로서 Inert Gas Oven으로도 사용 가능
· Door Seal부(발포 실리콘)의 열 영향 저감을 위해서 수냉식 채용, 높은 기밀성을 실현하여 깨끗한 환경에서의 열처리가 가능
Applications
[Semiconductor]Polyimide curing
[FPD]
FPD
Specifications
