반도체 제조장비
반도체 제조장비
Gate Insulating Film Formation
고온 처리가 가능하여 SiC 등의 제조에 최적인 종형로입니다.
Features
- · R&D에서 양산 라인에 모두 대응 가능
· ~200mm까지 폭넓은 Wafer size 대응
Applications
[Semiconductor]Annealing, Thermal oxidation, Impurity diffusion, Gettering
[SiC Power Semiconductor]
Thermal oxidation, Nitriding/Oxynitriding, POA
Specifications
