loading

제품정보

반도체 제조장비

RLA-4106-V

Si, GaN, SiC 등을 단시간에 고정밀도로 처리가 가능한 Lamp Annealing System입니다.

Features

  • · 진공 대응 챔버 및 N2 Load-lock 반송을 표준 탑재
    · 상, 하 모두 할로겐 램프 설치
    · 6존 제어로 간편하게 각각의 Power 비율 설정 가능
    · 방사 온도계에 의해 비접촉으로 처리물의 온도를 측정하여 피드백 제어가 가능

Applications

[Semiconductor]
Annealing, Thermal oxidation

[SiC Power Semiconductor]
Contact annealing

Specifications

슬라이드15.jpg

슬라이드15.PNG