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제품정보

반도체 제조장비

전력반도체(Si, SiC, GaN), MEMS, VCSEL 등의 생산을 위한 첨단 열처리 장비와 패키징(Fan-Out WLP/PLP 등)
장비 등 저온에서 1,850℃까지의 다양한 열처리 장비를 Line-up하고 있습니다.

  • 소형 실험·연구(R&D)부터 양산까지 요구에 맞춘 실리콘 웨이퍼와 태양 전지의 생산 용도에도 사용할 수 있는 횡형로

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    ※ 장비 모델에 따라 공정, 처리품에 차이가 있습니다. 상세 내용은 제품 페이지를 참고해주세요.

  • Φ100~200mm 웨이퍼 대응, R&D에 있어서도 고품위 처리를 실현한 Lamp Annealing System

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    ※ 장비 모델에 따라 공정, 처리품에 차이가 있습니다. 상세 내용은 제품 페이지를 참고해주세요.

  • 내열형의 고성능 필터와 독자 냉각기의 탑재로 최고 530℃까지(V형은 500℃까지)의 고온 처리를 실시할 수 있는 Clean Oven

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    ※ 장비 모델에 따라 공정, 처리품에 차이가 있습니다. 상세 내용은 제품 페이지를 참고해주세요.

  • VCSEL용으로 특화된 장비입니다.
    다른 VF Series에서도 VCSEL 공정 대응 가능합니다.

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    ※ 장비 모델에 따라 공정, 처리품에 차이가 있습니다. 상세 내용은 제품 페이지를 참고해주세요.

  • MEMS용으로 특화된 장비입니다.
    다른 VF Series에서도 MEMS 공정 대응 가능합니다.

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    ※ 장비 모델에 따라 공정, 처리품에 차이가 있습니다. 상세 내용은 제품 페이지를 참고해주세요.